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亿万投资人马克·库班:医生应该教患者如何用AI来辅助治疗_我的网站

千王之王

一 |     

IT之家 8 月 23 日消息,据《商业内幕》20 日报道,亿万富翁企业家马克 · 库班近期反驳了 AI 会取代医生的说法,并提出医生应该主动帮助患者在治疗过程中使用 AI。    【TechWeb】知名半导体分析机构 SemiAnalysis 发布了对华为麒麟 9030 芯片的拆解报告。库班认为,患者病情突然变化时,医生需要实时观察、沟通、共情并作出判断,这些能力并非 AI 可以复制。不仅如此,他同时指出,放射科医生绝不可能被取代,不过预计未来每一名放射科医生都会使用 AI。库班表示,AI 确实会接手医生目前承担的许多工作,但并不是因为机器可以独立行医,而是临床医生被医疗集团制造的大量“狗屁行政杂务”占用了太多时间。对此,他给出的解决办法很直接:“用 AI 取代中间商。”库班还提出了医生在 AI 广泛应用后的另一项职责:帮助患者学会使用这些工具

二 | 私人诊所医生可以和患者一起设置 Claude、ChatGPT、Gemini 和 Grok 等 AI 工具,根据患者情况配置个性化指令、技能和提示词。

三 | 大模型完成处理后,可以向医生分享结果,让医生同时了解患者本人及其所使用的 AI 提供的信息。报告显示,这颗由中芯国际(SMIC)代工的芯片,其最小金属间距(metal pitch)达到 32.5nm,比 Intel 最新的 18A 工艺 Panther Lake 的 36nm 还要大约 10%。

四 | 更关键的是,这家中国晶圆厂是在无法获得最先进 EUV 光刻机的情况下,通过 DUV 多重 patterning 和设计-工艺协同优化(DTCO)达到这一密度水平。         一颗“金属间距比 Intel 18A 更小”的中国芯片          SemiAnalysis 的拆解指出,麒麟 9030 采用 SMIC 的 N+3 工艺(第三代 7nm 级节点),其 M0 局部金属层间距为 32.5nm,而 Intel 18A 的 M0 间距为 36nm。这意味着在最细金属线宽这一指标上,SMIC N+3 已比 Intel 最新一代逻辑节点更“紧凑”。库班长期关注医疗体系中的中间环节。据IT之家了解,2022 年,他参与创办 Mark Cuban Cost Plus Drug Company,通过透明定价和绕过传统药品福利管理机构的方式经营网络药房。         不过,报告也强调,金属间距只是衡量制程能力的指标之一,并不能代表整体工艺水平。SMIC N+3 的晶体管密度约 113.4 MTr/mm²,略高于 TSMC N6 的 107.7 MTr/mm²,但仍明显落后于 Intel 18A 的高密度库。挑战医疗行业不透明的药品定价体系,也由此成为库班最具代表性的商业项目之一。库班此前认为,AI 可能在医疗服务提供者和保险公司之间引发一场军备竞赛:医生利用 AI 智能体改善治疗,医疗集团则用自己的智能体“拖延并拒绝”。

五 |          没有 EUV,如何做到更密金属层?          在 EUV 光刻机被出口管制限制的背景下,SMIC N+3 并没有“等 EUV 可用”才开始推进先进制程。他还建议雇主把医疗保健合同交给聊天机器人检查一遍,找出隐藏成本和对自身不利的条款

六 |

。SemiAnalysis 的分析显示:          SMIC 通过“DUV 浸没式 + 自对准四重图形(SAQP)”等高复杂度工艺,实现与 TSMC N6 相当的逻辑密度,但代价是工序更多、成本更高、控制难度更大。报告明确提到,即便没有 EUV,SMIC 仍达到甚至超过了一些使用 EUV 的成熟节点(如 TSMC N6)的密度水平。         这回答了 SemiAnalysis 提出的那个关键问题:在 EUV 不可得的前提下,中国芯片制造到底走到了哪一步?——至少从金属间距和局部密度看,它已经逼近甚至某些指标上“咬住”了最新一代制程。

七 |          金属更密 ≠ 整体领先          SemiAnalysis 同时强调,“金属间距更小”的标题很抓眼球,但并不等同于工艺整体领先:          在晶体管密度、性能、功耗等综合指标上,SMIC N+3 仍落后于 Intel 18A、TSMC N3P 等最先进节点。高密度是通过更复杂的 DUV 多重图形、更严苛的设计规则和工艺控制“换”来的,这在良率和成本上带来额外挑战。报告指出,麒麟 9030 的整体性能大致相当于三年前的 Android 旗舰 SoC,与当前苹果、高通、联发科、三星的最新旗舰仍有明显差距。         对先进制程竞争格局的启示          这次拆解再次说明,先进半导体竞争比“有没有 EUV”的简单二元判断更复杂:在没有 EUV 的条件下,SMIC 通过 DTCO、SAQP 等手段,仍然把金属层密度推进到接近甚至部分指标优于 Intel 18A 的水平。这意味着出口管制改变了问题的难度,但并未完全冻结中国先进制程的演进路径。同时,从性能、功耗、良率等多维度看,SMIC 与全球最领先工艺之间仍有明显差距,中国在整体生态、EDA、材料与设备等方面仍面临“追赶之路”。

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Published on:00:37:32


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